一維X軸壓電掃描臺，內置高性能壓電陶瓷作為驅動元件，采用SGS傳感器閉環，實現精密高速定位運動，產品結構緊湊，易于集成，具有較高的重復定位精度和動態定位性能。 P18.X900一維X軸壓電掃描臺特性 • 一維X向運動，行程可達1.11mm • 承載能力：1kg • 通孔尺寸：Ø35mm • 閉環重復定位精度高 • 響應速度快 P18.X600一維X軸壓電掃描臺特性 • 一維X向運動，行程可達740μm • 承載能力：2kg • 通孔尺寸：Ø35mm • 閉環重復定位精度高 • 響應速度快 P18.X200一維X軸壓電掃描臺特性 • 一維X向運動，zui大行程280μm • zui大承載2kg • 通孔尺寸：Ø35mm • 閉環重復定位精度高 • 響應速度快 P18.X300一維X軸壓電掃描臺特性 • 一維X向運動，zui大行程370μm • zui大承載3.5kg • 通孔尺寸：Ø35mm • 閉環重復定位精度高 • 響應速度快 大位移、大承載、高剛、高頻響 | 頻率負載曲線 | 應用實例-納米光刻 | P18系列壓電掃描臺內置高可靠性壓電陶瓷驅動，P18.X300可以實現zui大370μm的掃描范圍，運動直線性好，可選擇閉環版本獲得優異的線性度與重復定位精度。 P18.X300采用*的結構設計，具有大剛度、大出力、大承載等特點，zui大承載達3.5kg，空載諧振頻率達600Hz，配套芯明天大功率控制器響應時間zui高可達10ms，是精密加工、半導體制造、掃描顯微等應用。 | 
| 在納米光刻實驗中需要對鏡片進行高速微納米級的精密移動，從而優化鏡片讀取的信息。芯明天P18.XY300以其大位移、高精度、高穩定性等優點應用于納米光刻實驗。 
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應用 • 圖像處理與穩定 • 精密定位 • 掃描顯微 • 干涉/計量 • 半導體測量 • 表面檢測 • 光學計量 • 光學顯微成像 • SPM掃描顯微鏡 • 掩模/晶圓定位 • 生物技術 • 表面結構分析 |
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